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二氧化硫排放成環(huán)保關(guān)注問(wèn)題 活性炭脫硫劑加熱再生裝置技術(shù)升級(jí)

2013-11-11 14:01 來(lái)源:未知

 二氧化硫排放成環(huán)保關(guān)注問(wèn)題 活性炭脫硫劑加熱再生裝置技術(shù)升級(jí)。

    煉銅廠煅燒含硫的黃銅礦或輝銅礦時(shí),逸出大量二氧化硫,以此制造硫酸;同時(shí)銅礦還含有砷,經(jīng)煅燒生成三氧化二砷,會(huì)引起制備硫酸的活性炭脫硫劑催化劑——五氧化二釩的中毒,而且砷進(jìn)入大氣,易造成污染。活性炭脫硫劑是雙電層電容器(EDLC)使用多的電極材料,早在1954年就有以活性炭用于EDLC電極的專利。鄭州椰島環(huán)?萍加邢薰局饕a(chǎn)品有活性炭系列等被國(guó)內(nèi)外供水排水、電力、冶金、城建、石油、化工、環(huán)保各大中型企業(yè)采用,并且設(shè)備運(yùn)行良好,深得用戶好評(píng)。

 

    針對(duì)煉銅時(shí)的砷害和硫害,曾經(jīng)用過(guò)濕法脫砷,此法既易使砷進(jìn)入水中,造成二次污染,又易使硫酸沖淡。近年使用活性炭脫硫劑法,先用活性炭吸附脫砷,繼以活性炭脫硫或以接觸法制造硫酸;钚蕴课降纳橛脽峥諝饨馕厥眨缓笤偕钚蕴,反復(fù)使用,尾氣脫砷后延長(zhǎng)制酸的催化劑的壽命,提高硫酸的得率。一般認(rèn)為,活性炭的比表面積越大,其比容就越高,通常認(rèn)為用大比表面積的電極材料來(lái)獲得高比容量。因?yàn)镋DLC主要靠電解液進(jìn)入活性炭的空隙形成雙電層存儲(chǔ)電荷,一般認(rèn)為水溶液中碳材料中2nm的孔對(duì)形成雙電層比較有利,如小于2nm以下的孔則很少有雙電層形成;對(duì)非水電解液,則該孔徑為5nm,因?yàn)榭讖竭^(guò)小時(shí),電解質(zhì)溶液很難進(jìn)入并浸潤(rùn)這些微孔。

 

    吸附飽和的活性炭脫硫劑再生方法,工業(yè)上使用的方法有使用酸、堿的藥品再生及高溫條件下利用水煤氣反應(yīng)的加熱再生兩種。藥品再生法作為醫(yī)藥品的脫色精制及發(fā)酵液脫色使用過(guò)的活性炭的再生方法,曾獲得過(guò)使用。但是,由于再生過(guò)程中有大量廢水排出,必須有中和、生物處理等排水處理裝置。在對(duì)排水要求嚴(yán)格的地區(qū),這種方法有一定的困難。另一方面,雖然吸附在活性炭上的有機(jī)物質(zhì)被加熱分解后會(huì)造成空氣污染,但是,通過(guò)使用二次燃燒室等必要的措施,高溫加熱再生法,能夠成為環(huán)保性能卓越的方法。

 

    化學(xué)法再生一般都在原炭柱內(nèi)進(jìn)行,不需專用再生設(shè)備。20世紀(jì)70年代中期,對(duì)活性炭脫硫劑加熱再生裝置的技術(shù)開(kāi)發(fā)取得很大進(jìn)展,各式各樣的再生爐在各個(gè)領(lǐng)域中得到了廣泛的應(yīng)用。目前國(guó)內(nèi)外使用較多的再生爐型有回轉(zhuǎn)爐、多層爐、移動(dòng)層爐、流態(tài)化爐等。回轉(zhuǎn)爐與多層爐適用于大規(guī)模再生,設(shè)備結(jié)構(gòu)及工藝控制都與顆粒活性炭制造的工藝中的活化工藝過(guò)程相似,而流態(tài)化爐再生設(shè)備是近年來(lái)出現(xiàn)的。

 

    因此這些微孔所對(duì)應(yīng)的表面積就成為無(wú)效表面積。所以需要對(duì)活性炭脫硫劑的孔徑和比表面積就成為無(wú)效表面積,所以需要對(duì)活性炭的孔徑和比表面積選擇一個(gè)佳范圍值,用以提高中孔的含量、充分利用有效表面積,從而增大電極的比容。

 

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